Grafitna šipka za rast monokristala silicija
Pregled proizvoda
Jincheng grafitne šipke za rast monokristala silicija su grafitne komponente visoke čistoće, precizno strojno obrađene koje se koriste u Czochralski (CZ) pećima za izvlačenje kristala. Ove šipke služe kao potporne strukture, grijači i nosači lončića u procesu proizvodnje monokristalnog silicija.
Naše monokristalne grafitne šipke proizvedene su od fino zrnatog izostatičnog grafita ultra-visoke čistoće koji zadovoljava najstrože zahtjeve poluvodičke i solarne fotonaponske industrije. Dostupni su prilagođeni promjeri i duljine kako bi odgovarali različitim modelima kristalnih izvlakača.
Ključne značajke
- Ultra-visoke čistoćesa sadržajem pepela ispod 50 ppm za poluvodički silicij
- Izvrsna toplinska stabilnostna temperaturama do 1500 stupnjeva
- Visoka mehanička čvrstoćaza strukturnu potporu u kristalnim izvlakačima
- Precizno obrađenodo uskih tolerancija za pravilno pristajanje peći
- Dobra otpornost na toplinski udarza ponovljene cikluse grijanja i hlađenja
- Nisko ispuštanje plinovakako bi se spriječila kontaminacija taline silicija
- Dostupne prilagođene veličineza razne modele izvlakača kristala
- Dosljedna kvalitetas uniformnošću svojstava od serije do serije
Tehničke specifikacije
| Parametar | Vrijednost |
|---|---|
| Materijal | Izostatski grafit ultravisoke čistoće |
| Gustoća | 1.80 - 1.90 g/cm3 |
| Sadržaj pepela | < 50 ppm (semiconductor grade) |
| Tvrdoća po Shoru | 65 - 80 HS |
| Čvrstoća na pritisak | 100 - 150 MPa |
| Čvrstoća na savijanje | 50 - 80 MPa |
| Električni otpor | 8 - 13 uOhm·m |
| Maksimalna radna temperatura | 1600 stupnjeva |
| Promjer | 5 mm - 200 mm (prilagođeno) |
| Duljina | Do 1000 mm (prilagođeno) |
Prijave
- Czochralski (CZ) povlačenje kristala silicijaza ingote silicija poluvodiča
- Rast monokristala silicijaza solarne fotonaponske ploče
- Rast kristala u plutajućoj zoni (FZ).za silicij visoke čistoće
- Rast složenih poluvodičaza GaAs, InP i druge poluvodičke materijale
- Komponente vruće zone Crystal pulleruključujući grijače i nosače
- Proizvodnja poluvodičke opremeza graditelje peći za rast kristala
Zašto odabrati Jincheng grafitne šipke?
- Grafit ultravisoke čistoće poluvodičaza najzahtjevnije primjene rasta kristala
- Precizna CNC obradas uskim tolerancijama za savršeno pristajanje peći
- Iskustvo s velikim markama izvlakača kristalauključujući PVA, Kayex i Mitsubishi
- Dizajn štapa po narudžbina temelju specifikacija vaše peći i dizajna vruće zone
- Konkurentne cijenekao izravni proizvođač grafitnih komponenti
- Brza dostava- standardni štapovi unutar 1 tjedna, custom unutar 2 tjedna
- Tehnička podrškaza odabir kvalitete grafita i optimizaciju vruće zone
- Globalna dostavatvornicama poluvodiča i proizvođačima solarnih ćelija diljem svijeta
Često postavljana pitanja
P1: Koju razinu čistoće preporučujete za rast silicija za poluvodiče?
O: Za poluvodički silicij preporučujemo grafit ultravisoke čistoće sa sadržajem pepela ispod 50 ppm. Za silicij solarne kvalitete obično je dovoljan grafit s udjelom pepela ispod 200 ppm.
P2: Koliko grafitne šipke traju u kristalnim izvlakačima?
O: Život šipke ovisi o uvjetima peći i dizajnu vruće zone. Pod tipičnim CZ uvjetima rasta silicija, grafitne komponente vruće zone traju 3-6 mjeseci prije zamjene.
P3: Možete li proizvoditi šipke s određenim dimenzijama i tolerancijama?
O: Da, proizvodimo prilagođene grafitne šipke na temelju vaših crteža i specifikacija. Navedite svoje zahtjeve za dimenzijama za ponudu.
P4: Nudite li usluge premazivanja grafitnih šipki?
O: Da, možemo ponuditi različite premaze kao što je premaz od tantal karbida (TaC) za produljeni vijek trajanja šipke i smanjenu kontaminaciju silikonom.
Popularni tagovi: grafitna šipka, monokristalni silicij, Czochralski šipka, šipka za rast kristala, grafitni grijaći element, grafitna šipka za peć, grafitna šipka od ugljika elektroda, grafitna šipka visoke čvrstoće, prirodni grafit, grafit impregniran smolom, Grafitna šipka otporna na toplinske udare
